上海微电子DUV光刻机没有通过验收？国产光刻机又凉凉？r近日，网上有传闻称上海微电子预计在2020年12月下线首台采用ArF光源的可生产11nm芯片的SSA800/10W光刻机。r据网友爆

上海微电子DUV光刻机没有通过验收？国产光刻机又凉凉？r近日，网上有传闻称上海微电子预计在2020年12月下线首台采用ArF光源的可生产11nm芯片的SSA800/10W光刻机。r据网友爆料称，SSA800/10W光刻机采用NA1.35透镜组，并搭载超精密磁悬浮双工件台和超纯水浸入系统，同时采用华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7nm。

同时，该网友还贴出了上海微电子的双工件台曝光系统的操作控制界面。r其实这个消息真假不一定但是我想光刻机应该已经开始实验性的量产芯片测试了，至于合不合格要等官方的说明，但是我看到上海微电子的新专利，此次突破可以让我们更快的达到14NM的芯片生产。r上海微电子的光刻投影物镜专利，通过采用球面透镜设计，降低了加工制造成本，增大了数值孔径，并且适用于ghi三线波段。

电子天平工作条件安放在清洁、干燥无腐蚀的稳定表面，远离振动和气流波动较大的环境，环境温度变化不能太大，一般为每小时温度平均波动不超过5℃。为了保证称量精度，在首次使用或校准之前天平应预热至少25分钟。二．操作说明水平调节:观察水平仪，如水平仪水泡偏移，需调整水平调节脚，使水泡位于水平仪中心。预热:接通电源，预热至规定时间后，开启显示器进行操作。

读数时应关上天平门。校准:天平安装后，第一次使用前，应对天平进行校准。因存放时间较长、位置移动、环境变化或未获得精确测量，天平在使用前一般都应进行校准操作。本天平采用外校准（有的电子天平具有内校准功能），先按“去皮”键清零，待读书显示为0.0000后按“校准”键，然后放入100g校准砝码，校准结束时天平会发出提示声即校准完毕。

上海光谱的SP752主要性能指标光学系统:单光束,自准式光栅单色器波长显示范围(nm):2001000光谱带宽(nm):5杂散光:≤0.5%T上海精科的752N主要技术指标:◆波长范围；200nm～1000nm◆波长最大允许误差：±2nm◆波长重复性：≤1nm◆透射比最大允许误差：±0.5%（T）（以NBS930D测定）◆透射比重复性：≤0.2%（T）◆光谱带宽：4nm◆杂散光：≤0.3%（T）(在220nm处,

在360nm处,以NaNO2测定)◆稳定性:暗电流漂移：0.2%(T)/3min亮电流漂移：0.5%(T)/3min比较这两个仪器,两个主要的性能指标：波长带宽和杂散光,明显的是上海精科的752N更优秀.那些仪器介绍里写的再吸引人再花头,硬指标才是硬道理,所以上海精科的752N明显更好.,上海光谱和上海精科的紫外可见分光光度计哪个好上海光谱的SP752和上海精科的752N的比较。